ASML i Zeiss razvijaju stroj za još sitnije sklopove na čipovima
Inženjeri ASML-a i Zeissa opisali su sustav litografije Hyper NA koji bi mogao izrađivati dijelove sklopova veličine oko pet nanometara. Procjenjuju da bi tehnologija mogla biti spremna za desetak godina, uz uporabu dijela opreme na kojoj se temelje današnji strojevi. ASML je započeo razvoj, ali još nije odlučio hoće li stroj proizvoditi.
Svaki sažetak povezan je s izvorom. Oznaka perspektive, gdje je dostupna, opisuje pristup izvora, ali sama po sebi ne potvrđuje točnost pojedine tvrdnje.
Koristimo kolačiće za osnovne funkcije weba i analitiku. Možete prihvatiti sve ili odabrati samo nužne.
Saznaj više i uredi postavke
Postavke kolačića
Možete prilagoditi koje kategorije kolačića dopuštate. Nužni su uvijek aktivni.
Nužni
Potrebni za osnovno funkcioniranje (ne mogu se isključiti).
Analitika
Pomaže nam razumjeti korištenje stranice (IP anonimno). Koristimo interni sustav za statistiku. (Ne koristimo Google Analytics i slične eksterne servise).
